近年来功能材料薄膜和复合薄膜不断出现多元化方向的需求，镀膜技术及薄膜产品在工业上的应用日益广泛，在电子材料领域中占有极其重要的地位。
这其中，镀膜方法一般可以分为气相生成法、氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、涂布法、液相生长法等，气相生成法又可以分为物理气相沉积法、化学气相沉积法和原子层沉积法。
物理气相沉积法也称PVD镀膜技术，包括真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等，是基本的薄膜制备技术，都要求沉积薄膜的空间要有一定的真空度。磁控溅射镀膜是PVD镀膜技术的一种，是近十几年来发展迅速的一种表面薄膜技术，是最先进的表面处理方法之一。
CINNOResearch预测，随着PVD镀膜技术应用日趋广泛，下游应用领域市场也保持上升趋势，中国大陆PVD镀膜市场规模将不断扩张，到2025年国内市场规模将保持GAGR13%的增速。